CMP過濾

“兵家必爭”的CMP工藝中，對硅晶圓或其它襯底材料平坦化處理，需要把大顆粒徑的產品過濾，保留有效工作的顆粒進行研磨，達到最優化的流體動力學狀態。杭州大立的濾芯有優異的顆粒截留性能，提高客戶的生產成本效益。

光刻工藝

隨著加工線寬的精細化要求，對于產品的潔凈控制越來越嚴苛，各種污染物，金屬離子的析出要求對濾芯的生產提出了更高的要求。大立過濾結合實際，為工藝的升級提供高潔凈度的產品，確保產品的質量。

廠務系統

廠務系統需要為整個FAB穩定地提供潔凈化學品、超純水以及潔凈工藝氣體。這就對各段使用濾芯的穩定性及一致性過濾效果提出了高要求。杭州大立的大流量濾芯、保安濾芯、高精度折疊濾芯以及全氟濾芯產品系列，為廠務系統提供穩定過濾的服務。

制程工藝

平板顯示制造過程中，過濾產品的性能直接影響成品的質量以及良率，尤其在高世代線中，過濾產品的問題會造成大批量的報廢和損失。杭州大立過濾針對各段工藝的要求為客戶提供穩定可靠的產品，分析解決各制程問題，優化產品，降低成本。

動力系統

動力系統需要長時間不間斷地工作，為高世代平板顯示制造提供潔凈化學品、超純水以及潔凈的工藝氣體，這就對過濾的穩定性提出了很高要求。杭州大立的過濾產品為平板顯示制造動力系統平穩運行提供可靠的保障。

電子化學品

潔凈電子化學品作為半導體生產制造的關鍵材料，在半導體的生產過程中起著關鍵的作用，各種不同特性的電子化學品對過濾產品的要求各有不同，對過濾產品的潔凈度，低析出有著嚴苛的要求。大立公司使用先進的設備及工藝，對過濾產品進行嚴格的潔凈度的管控，生產低析出，低金屬離子產品。

數據存儲

數字信息時代，存儲介質由紙質載體發展到硬盤、閃存、U盤、SD卡等多種新型載體存儲介質。為了制造便攜式、大容量數據存儲產品，設備和工藝有賴于各部工序的污染控制和過濾純化技術。杭州大立開發生產各種先進的過濾產品和相關技術，滿足客戶個性化的工藝和需求。